技術情報―Technology Information


分析・評価技術

表面・界面の構造および分子構造等の情報を高感度に得られる最新分析機器の導入によりマイクロスケールからナノスケールに及ぶ物質・現象の原理解析が可能に。このミクロ領域の情報を新規材料の設計・技術展開に役立てます。新しい分析方法の開発や評価技術の革新も行います。

最先端分析機器


XPS(X線光電子分光)
XPS

軟 X 線を物質表面に照射し、表面数ナノメートル領域より放出される光電子(photoelectron )のエネルギー測定により、物質表面の構成元素、化学結合状態の分析を行うのが、X 線光電子分光法(X-ray Photoelectron Spectroscopy:XPS)です。測定される光電子のエネルギーは元素固有であり、また結合状態に依存しているため、化学シフトが観測されます。励起源として X 線を使用するため、絶縁物質の測定も容易にできます。XPS における測定対象は、金属 ・ 半導体 ・ 高分子化合物から最先端のハイテク材料まで広範囲に渡り、これらの材料開発、表面評価に適した分析装置です。


TEM(透過型電子顕微鏡)
TEM

フィールドエミッション形電子銃を光源に持ちインカラム形エネルギーフィルタを搭載した透過型分析電子顕微鏡です。 本装置のフィルタワークにより、試料中の元素分析はもちろん、その化学結合状態の分析もできます。ゼロロスフィルタ像や、エネルギー選択像からは観察の目的に応じた情報を得ることができます。ナノテクノロジー新素材の開発や微小異物の分析に用いられます。またオプションとして3次元トモグラフィー装置を導入し、3次元原子ポジショニングと立体観察が可能です。

図:金属ナノ粒子からなるゲルネットワークの透過型電子顕微鏡写真(九州大学との共同研究)
金属ナノ粒子からなるゲルネットワークの透過型電子顕微鏡写真(九州大学との共同研究)

NMR(核磁気共鳴装置)
NMR

オートサンプリング機能を有した600MHz の高磁場 NMR の高性能・高機能分光計は、分子構造解析や材料評価といった従来の NMR の応用にとどまらず、迅速な機能性分子・高分子の創製、分子間の相互作用など緻密に解析できる装置です。また種々の元素に対応した固体プローブを導入し、幅広く材料分析に用います。さらにLCとも連動し、リアルタイムな成分分析・反応解析・構造解析が可能です。


EPMA
EPMA

FE 電子銃、電子光学系、真空排気系などを刷新した高分解能 ・ 高性能フィールドエミッション電子プローブマイクロアナライザです。FE 電子銃が実現した極微プローブは、低加速電圧で分析照射電流範囲にわたり、サブミクロンの分析分解能と微量元素の高感度 X 線検出を可能としました。 これらによりマイクロレベルの異物解析や構造・組成の解析に用いることができるパワーツールです。

EPMA

TOF-SIMS
TOF-SIMS

超高真空下で試料表面にイオン(1次イオン)を照射すると、試料を構成する原子や分子の一部がイオン(2次イオン)として放出されます。

この2次イオンを電場によって加速すると、加速された2次イオンの速度は質量数によって異なります。

したがって検出器へ到達する時間を測定することにより、発生した2次イオンの質量数を測定することができます。これらの原理により高分子材料の組成・構造解析を精密に行うことが可能です。