EPMA（电子探针显微分析仪）

通过场致发射型EPMA（Electron Probe MicroAnalyser ）能够进行以下模式：使用SEM（Scanning Electron Microscope）模式的二次电子像、反射电子像观察；使用5ch WDS（Wavelength Dispersive X-ray Spectrometer）的元素分析、化学位移测量；使用EDS（energy dispersive X-ray spectrometry）的元素分析、阴极发光测量、将这些相组合的组成映射。也被用于界面状态解析及工件故障解析。

SEM（扫描电子显微镜）

在开发现场主要使用EPMA进行解析，但是在质量保证等现场，则通过利用SEM进行成分分析，来确认所接收的原材料的质量等。

通过溅射分析最表面的构成成分

是测量存在于试样最表面的分子及测算其分布的装置。

由照射离子束产生的溅射现象所提取的试样最表面的构成成分，以与质量相对应的速度在装置内飞行后，被导入到检测器。

被检出为止的时间开始，构成成分以与质量相对应的速度在装置内飞行后，被导入到检测器。被检出为止的时间开始得到的构成成分的分子信息(质谱)、或者扫描离子束，能够得到映射像(分布)。主要用于对顾客设备的解析等。

表面成分分析

XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy）通过对在向试样表面照射X射线时所产生的光电子谱进行解析，能够测量试样表面的元素组成与元素的结合状态。由于能够以高定量性对粘接最表面进行分析，因此能够可靠地了解界面状态的成分信息。